Lithographie en immersion
Cet article est une ébauche concernant l’informatique et l’électronique.
Vous pouvez partager vos connaissances en l’améliorant (comment ?) selon les recommandations des projets correspondants.
La lithographie en immersion est une technique de gravure de plaques de microprocesseurs informatiques, dans un bain aqueux clair, inventé au sein de la société TSMC.
Ce procédé assure une meilleure fiabilité de la gravure, et donc un taux de déchets moins élevé[1]. Elle permet la production de composants de très petite taille[2].
Notes et références
- Portail de l’informatique