Disilan
Strukturformel | |||||||||||||||||||
---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
![]() | |||||||||||||||||||
Allgemeines | |||||||||||||||||||
Name | Disilan | ||||||||||||||||||
Andere Namen | Disilicoethan | ||||||||||||||||||
Summenformel | Si2H6 | ||||||||||||||||||
Kurzbeschreibung | farbloses Gas mit unangenehmem Geruch[1] | ||||||||||||||||||
Externe Identifikatoren/Datenbanken | |||||||||||||||||||
| |||||||||||||||||||
Eigenschaften | |||||||||||||||||||
Molare Masse | 62,22 g·mol−1 | ||||||||||||||||||
Aggregatzustand | gasförmig | ||||||||||||||||||
Dichte |
| ||||||||||||||||||
Schmelzpunkt | −132,5 °C[1] | ||||||||||||||||||
Siedepunkt | −14,5 °C[1] | ||||||||||||||||||
Dampfdruck | 0,33 MPa (21 °C)[1] | ||||||||||||||||||
Löslichkeit | Zersetzung mit Wasser[1] | ||||||||||||||||||
Sicherheitshinweise | |||||||||||||||||||
| |||||||||||||||||||
Soweit möglich und gebräuchlich, werden SI-Einheiten verwendet. Wenn nicht anders vermerkt, gelten die angegebenen Daten bei Standardbedingungen (0 °C, 1000 hPa). |
Disilan (n-Si2H6) ist eine chemische Verbindung, die zur Gruppe der Siliciumwasserstoffe (Silane) gehört und dort das Analogon zum Kohlenwasserstoff Ethan bildet.
Gewinnung und Darstellung
Disilan kann durch Säurezersetzung von Magnesiumsilicid oder durch Einwirkung elektrischer Entladungen auf Monosilan und anschließende fraktionierte Kondensation des erhaltenen Silangemisches gewonnen werden. Die direkte Gewinnung durch Reduktion von Hexachlordisilan mit Lithiumaluminiumhydrid ist jedoch vorzuziehen.[2]
Eigenschaften und Verwendung
Disilan ist ein farbloses, unangenehm riechendes Gas[3], das sich bei Luftkontakt von selbst entzündet, wobei Siliciumdioxid und Wasser entstehen. Beim Zusammenbringen mit Wasser wird Disilan hydrolysiert. Bei Kontakt mit Halogenen oder Halogenkohlenwasserstoffen, Sauerstoff, Basen und Oxidationsmitteln erfolgt explosionsartige Reaktion. Ab 300 °C zersetzt sich Disilan zu Silicium und Wasserstoff.
Industriell wird Disilan zur Beschichtung von Produkten mit amorphen Siliciumschichten (CVD-Verfahren) sowie bei der Produktion und zur Reinigung von Silicium-haltigen Wafern (für Integrierte Schaltkreise) verwendet.
Einzelnachweise
- ↑ a b c d e f g h i Eintrag zu Disilan in der GESTIS-Stoffdatenbank des IFA, abgerufen am 8. November 2016. (JavaScript erforderlich)
- ↑ Georg Brauer (Hrsg.), unter Mitarbeit von Marianne Baudler u. a.: Handbuch der Präparativen Anorganischen Chemie. 3., umgearbeitete Auflage. Band I, Ferdinand Enke, Stuttgart 1975, ISBN 3-432-02328-6, S. 657.
- ↑ Wolfgang Legrum: Riechstoffe, zwischen Gestank und Duft, Vieweg + Teubner Verlag (2011) S. 68–69, ISBN 978-3-8348-1245-2.